日本yonekura小型加熱/冷卻高溫觀測裝置 MHO300 特點介紹

可安裝在顯微鏡載物臺上

溫度范圍-100℃至100℃無縫控制

可在冷卻過程中控制溫度

環(huán)境檢測中的應用

可現(xiàn)場觀察自由環(huán)境溫度的變化。

根據(jù)樣品形狀制作爐體

我們可以根據(jù)您的樣品尺寸制造產品，僅加熱、僅冷卻等。

測量測試過程中的電氣變化

通過引入鉑絲等電極，可以檢測電阻值等的變化。

與傳統(tǒng)加熱爐相比，從6個方向快速加熱，極大地擴大了溫度分布區(qū)域。（5個觀察方向）

100mm大樣品架標準設備（加熱范圍約70 x 70 x 5tmm）

除了頂部觀察外，還可以從側面觀察。

日本yonekura小型加熱/冷卻高溫觀測裝置 MHO300 規(guī)格參數(shù)

所有系列均可進行加熱觀察。

密封爐結構允許在任何氣氛下加熱（可以在大氣、氣流或真空中加熱）

可高速加熱和冷卻 1000℃以下時可實現(xiàn) 50℃/秒的加熱速度（取決于條件）

由于燈加熱，可以實現(xiàn)清潔加熱

只需在電腦上按一下按鈕即可實現(xiàn)自動操作，包括自動氣體更換（可選）

實現(xiàn)高倍率原位觀察

使用高倍顯微鏡可以觀察到加熱條件的細微變化。

安裝在X射線分析/衍射設備和拉曼光譜設備中

緊湊的水冷爐體對周圍區(qū)域沒有熱影響，因此可以在加熱至1500℃的同時進行分析和衍射。